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Kit Amend sistema Integrado Repositor de Massa Capilar RMC System - 50005
Código: 997

Kit Amend sistema Integrado Repositor de Massa Capilar RMC System - 50005

Marca: Amend Referência: 50005

 
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Kit Amend sistema Integrado Repositor de Massa Capilar RMC System

Quantidade:
1 Shampoo Repositor 300ml
1 Repositor de Massa Capilar 300g
1 Balm Protetor 300ml

código Amend: 1236-1

​validade: 06/2022

O Sistema Integrado Repositor de Massa Capilar RMC System Amend devolve a condição original dos cabelos e promove uma proteção completa contra os danos futuros como tinturas, permanentes, calor do secador, chapinhas e agressões externas como mar, sol, piscina e radiação UV.

Indicação: Para Cabelos danificados e enfraquecidos.
Princípios Ativos: Bioativo Positivo
Ação: 
Cabelos mais resistentes, redução de quebra e pontas duplas e repõe a massa capilar perdida.

Modo de usar:
1 - Lave os cabelos com o Shampoo Repositor, massageando suavemente os cabelos com as pontas dos dedos;
2 - Enxágue e repita a operação. Retire o excesso d´água com uma toalha;
3 - Aplique o Repositor de Massa Capilar de maneira uniforme, mecha por mecha;
4 - Deixe agir por 10 minutos. NÃO É NECESSÁRIO AQUECER COM TOUCAS OU SECADOR;
5 -  Enxágue bem, retirando todo o produto do cabelo. Retire o excesso d´água com uma toalha;
6 -  Finalize o processo aplicando o Balm Protetor Pós-Reposição nos cabelos úmidos mecha por mecha no comprimento do fio e pontas;
7 -  Penteie como desejar;
8 - Não é necessário o enxágüe.    

Precauções: Mantenha fora do alcance de crianças, em lugar fresco e ao abrigo de luz intensa. Não ingerir. Em caso de contato com os olhos, enxaguar imediatamente com água abundante. USO EXTERNO.

Composição:
Shampoo Repositor:
Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Benzophenone-3 / Lauroyl Lysine / Glycine / Acetyl Cysteine / Arginine HCL, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone. Citric Acid.

Repositor de Massa Capilar Amend RMC System:
Aqua, Paraffinum Liquidum, Cetearyl Alcohol / Behentrimonium Methosulfate, Cetearyl Alcohol, Glycerin / Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride / Behenyl Alcohol / Cetearyl Alcohol / Isocetyl Alcohol / Quaternium-70 / Propylene Glycol / Amodimethicone / C12-14 SEC-Pareth-7 / C12-14 SEC-Pareth-5 / Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphate/ Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Benzophenone-3 / Lauroyl Lysine / Glycine / Acetyl Cysteine / Arginine HCL, Cetrimonium Chloride, Cyclomethicone, Corylus Avellana Seed Oil, Parfum, Amodimethicone / C11-15 Pareth-7 / Laureth-9 / Glycerin / Trideceth-12, Disodium EDTA, BHT, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone, Linalool, Coumarin, Limonene.

Balm Protetor Pós-Reposição Amend RMC System:
Composição: Aqua, Cetyl Alcohol, Cetearyl Alcohol / Behentrimonium Methosulfate, Propylene Glycol, Amodimethicone, Amodimethicone / C11-15 Pareth-7 / Laureth-9 / Glycerin / Trideceth-12, Phenyl Trimethicone, Glycerin / Hydroxyethyl Cetearamidopropyldimonium Chloride / Behenyl Alcohol / Cetearyl Alcohol / Isocetyl Alcohol / Quaternium-70 / Propylene Glycol / Dimethyl, Methyl (Aminoethylaminoisobutyl) Siloxane / C11-C15 Ethoxylated Secondary Alcohol / Disodium Lauriminodipropionate Tocopheryl Phosphates / Dimethylpabamidopropyl Laurdimonium Tosylate / Oxybenzone / Lauroyl Lysine / Glycine/ Acetyl Cysteine/ Arginine HCl, Parfum, Cyclomethicone, Citric Acid, BHT, Methylchloroisothiazolinone / Methylisothiazolinone, Linalool, Coumarin, Limonene.

 

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